ฤทธิ์ต้านอนุมูลอิสระของกรดไฮยาลูรอนิกโมเลกุลเล็กที่ได้จากกระบวนการพลาสมาวัฏภาคของเหลว

Abstract

การศึกษานี้มีวัตถุประสงค์เพื่อศึกษาฤทธิ์ต้านอนุมูลอิสระของกรดไฮยาลูรอนิกที่มีน้ำหนักโมเลกุลที่แตกต่างกัน ได้แก่ 9.5, 19.0, 200และ1100kDa ซึ่งได้จากการย่อยสลายด้วยกระบวนการพลาสมาวัฏภาคของเหลวโดยเมื่อทดสอบโดยใช้วิธี2,2-diphenyl-1-picrylhydrazyl(DPPH)พบว่ากรดไฮยาลูรอนิกที่มีน้ำหนักโมเลกุล9.5 และ19.0kDaแสดงคุณสมบัติต้านอนุมูลอิสระ มีค่า IC50=2.766และ5.862 mg/ml ตามลำดับ ซึ่งมีค่ามากกว่าที่200 และ 1,100 kDaดาลตัน (IC50= >10 mg/ml)ในขณะที่เมื่อทดสอบด้วยวิธี2,2'-azino-bis(3-ethylbenzothiazoline-6-sulphonic acid(ABTS)พบว่ากรดไฮยาลูรอนิกที่น้ำหนักโมเลกุล 9.5 kDa มีฤทธิ์ต้านอนุมูลอิสระสูงที่สุด โดยมีค่า %inhibition เท่ากับ 88.04% เมื่อเทียบกับที่น้ำหนักโมเลกุล 19.0 (65.86%), 200 (31.901%) , 1,100 (18.87%) kDaตามลำดับ การทดลองชี้ว่ากรดไฮยาลูรอนิกที่ถูกลดน้ำหนักโมเลกุลด้วยกระบวนการพลาสมาวัฏภาคของเหลวมีฤทธิ์ต้านอนุมูลอิสระได้ดี ซึ่งมีศักยภาพในการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมเครื่องสำอางและยา